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    超聲波清洗設備在LCD的清洗技術

    來源:超聲波清洗機??????2018/3/21 15:06:04??????點擊:

    【超聲波清洗機http://www.maestrosenmovimiento.comLCD清洗屬于精密清洗領域,對清洗的質量、效率要求很高,以前,LCD工廠大多使用的是ODS清潔劑和超聲氣相清洗技術,在國際上加速淘汰ODS清潔劑的壓力下,

    LCD廠正在積極選用替代ODS清潔劑(或稱非ODS清洗劑),替代清洗劑必須保證清洗的LCD質量不低于原用ODS清洗劑的清洗標準,甚至更高。本文簡單介紹LCD替代ODS

    清洗技術和不用或少用清洗劑的物理清洗技術,并對其未來的發展進行了簡單評說。

    一、非ODS清洗技術

         到目前為止,LCD行業已有15家企業參與了《中國清洗行業ODS整體淘汰計劃》,并獲得國際多邊基會贈款。其中已有10家企業的替代設備投入運行。但仍有少數LCD廠繼續使用CFC-113TCA。

    部分已淘汰ODS清洗劑的企業也面臨進一步優選工藝、設備及非ODS清洗劑,以便提高LCD清洗品質及效益的問題。以下討論LCD行業非ODS清洗技術的現狀。

    二、非ODS清洗劑及其工藝路線的選擇

        適用于LCD行業的非ODS清洗劑有水基、半水基和溶劑型三種, 水基、半水基清洗劑適用于超聲水洗工藝路線,溶劑型清洗劑適用于氣相超聲清洗工藝路線。

         水基、半水基及溶劑型三種替代清洗劑中,水基清洗劑的清洗速度遠遠不及溶劑和半水基型清洗劑。其原因有二:一是水基清洗劑去除LCD殘留液晶以表面活性劑與液晶的乳化作用為主,乳化對超聲波的依賴性較大;二是水的表面張力比溶劑大,對狹縫的濕潤性能較差。而表面張力較低的半水基和溶劑型清洗劑與液晶是一種溶解作用。

        可用于直接替代CFC-113氣相清洗劑的溶劑型清洗劑包括HCFC、HFC、n-PB、HFE、低沸點碳氫化合物及其含氧衍生物。其中HCFC類如HCFC141b、HCFC225,ODP值不等于0,為過渡性替代物;n-PB等鹵代烴在有水存在時對ITO具有較大的腐蝕性,而且n-PB的毒性至今尚無定論;HFCHFE類的優點是ODP等于0,但價格昂貴,且HFC4310具有極高的GWP值,低沸點的碳氫化合物及其含氧衍生物

    最大的問題是易燃易爆,使用該類清洗劑必須采用有防爆功能的清洗設備。

     基于上述水基清洗劑的清洗效力較低和溶劑型清洗劑的諸多問題。國內外絕大部分LCD企業采用半水基清洗劑作為CFC-113的替代物,使用閃點大于等于61℃碳氫化合物既保證了清洗劑在使用、存儲和運輸過程中的安全性,又利用碳氫化合物與液晶的互溶性,較快的清洗殘留液晶,并輔以表面活性劑經多道水漂洗,可以滿足LCD行業對清洗的品質和效率越來越高的要求。

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